摘要：本發(fā)明涉及一種校正光譜漂移的方法及裝置，所述校正光譜漂移的方法包括以下步驟：(A1)校正光源通過校正入縫射入校正光路，得到校正光源信號；(A2)采集校正光源特征譜線的光譜數(shù)據(jù)，根據(jù)波長與位置的關(guān)系式(xi,yi)＝f(λi)獲得特征譜線對應(yīng)的i個初始坐標(biāo)，其中i≥1；分別以所述i個初始坐標(biāo)為中心，從X方向和Y方向?qū)し宓玫綄嶋H坐標(biāo)，進而獲得i個偏移量(Δxi,Δyi)，通過擬合獲得漂移校正系數(shù)(δx,δy)＝f(Δxi,Δyi,ωi)，所述X方向和Y方向相互垂直；(A3)待測光源射入主光路，采集待測光源光譜數(shù)據(jù)，利用所述漂移校正系數(shù)對待測光譜的位置進行校正。本發(fā)明具有二維尋峰、實時校正，排除主光路干擾等優(yōu)點。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人聚光科技（杭州）股份有限公司;
- 發(fā)明人陳莉;俞曉峰;夏曉峰;丁海波;李銳;洪波;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區(qū)濱安路760號
- 申請?zhí)?/b>CN201610779281.4
- 申請時間2016年08月30日
- 申請公布號CN106404173A
- 申請公布時間2017年02月15日
- 分類號G01J3/28(2006.01)I;G01J3/02(2006.01)I;
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