摘要：本實用新型公開了一種基質(zhì)輔助激光解析離子源進樣裝置，包括內(nèi)部具有腔室的中空部件，安裝在中空部件內(nèi)部的Y向平臺和安裝在Y向平臺上的X向平臺，放置在安裝在X向平臺上的靶槽平臺上的靶槽，安裝在中空部件內(nèi)部且與X向平臺正向相對的頂靶機構(gòu)和舉靶機構(gòu)，以及安裝在中空部件頂部的具有凹槽的蓋板；本實用新型通過舉靶機構(gòu)和頂靶機構(gòu)的運動使得蓋板上的凹槽與靶槽平臺形成封閉腔室并由真空系統(tǒng)抽真空，以形成過渡真空腔室，可以有效地使得樣品進行一個動態(tài)的樣品對于真空度的適應過程，操作更加靈活和便捷。
- 專利類型實用新型
- 申請人江蘇天瑞儀器股份有限公司;
- 發(fā)明人應剛;徐鵬登;周立;
- 地址215347 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)中華園西路1888號天瑞產(chǎn)業(yè)園
- 申請?zhí)?/b>CN201620556870.1
- 申請時間2016年06月12日
- 申請公布號CN205691540U
- 申請公布時間2016年11月16日
- 分類號G01N27/62(2006.01)I;
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