摘要：本實用新型公開了一種用于化學(xué)氣相沉積的高溫加熱沉積臺，屬于材料制備加工領(lǐng)域。本實用新型改進了加熱式沉積臺的設(shè)計，在沉積臺臺面的內(nèi)表面鍍覆了一層100nm的氧化鉻薄膜，利用氧化鉻0.8的黑體系數(shù)提高了沉積臺臺面接收熱輻射的效率。同時，對于密封在沉積臺內(nèi)部的加熱體，其絕緣體支撐件被設(shè)計成陶瓷柱陣列，在不影響支撐功能的同時，提高了加熱體的散熱效率。這些改進使得這種新型的高溫加熱沉積臺的加熱效率與穩(wěn)定性得以大幅提高，并可以在700℃～1000℃溫度段內(nèi)持續(xù)穩(wěn)定工作，填補了加熱式沉積臺在高溫段的技術(shù)缺口。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京泰科諾科技有限公司;
- 發(fā)明人陳良賢;彭建;施戈;
- 地址102212 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰村南6區(qū)1號
- 申請?zhí)?/b>CN201320699640.7
- 申請時間2013年11月06日
- 申請公布號CN203625466U
- 申請公布時間2014年06月04日
- 分類號C23C16/46(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;
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