摘要：本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于化學(xué)氣相沉積的高溫加熱沉積臺(tái)，屬于材料制備加工領(lǐng)域。本實(shí)用新型改進(jìn)了加熱式沉積臺(tái)的設(shè)計(jì)，在沉積臺(tái)臺(tái)面的內(nèi)表面鍍覆了一層100nm的氧化鉻薄膜，利用氧化鉻0.8的黑體系數(shù)提高了沉積臺(tái)臺(tái)面接收熱輻射的效率。同時(shí)，對(duì)于密封在沉積臺(tái)內(nèi)部的加熱體，其絕緣體支撐件被設(shè)計(jì)成陶瓷柱陣列，在不影響支撐功能的同時(shí)，提高了加熱體的散熱效率。這些改進(jìn)使得這種新型的高溫加熱沉積臺(tái)的加熱效率與穩(wěn)定性得以大幅提高，并可以在700℃～1000℃溫度段內(nèi)持續(xù)穩(wěn)定工作，填補(bǔ)了加熱式沉積臺(tái)在高溫段的技術(shù)缺口。
- 專(zhuān)利類(lèi)型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京泰科諾科技有限公司;
- 發(fā)明人陳良賢;彭建;施戈;
- 地址102212 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰村南6區(qū)1號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201320699640.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年11月06日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN203625466U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2014年06月04日
- 分類(lèi)號(hào)C23C16/46(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;
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