摘要：本實(shí)用新型公開了一種用于真空杯內(nèi)壁鍍膜的二極濺射鍍膜設(shè)備，包括支架、濺射鍍膜裝置、真空裝置，其中濺射鍍膜裝置設(shè)置于支架上，真空裝置與濺射鍍膜裝置一端連接，濺射鍍膜裝置中設(shè)有若干杯具工裝，可匹配不同的濺射電極，本實(shí)用新型的有益效果是：適用于不同大小和形狀的真空杯，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單好維護(hù)，連續(xù)性好，多工件同參數(shù)加工，生產(chǎn)效率高且鍍層質(zhì)量的一致性好，另外，由于濺射電極可自由更換，沉積溫度等關(guān)鍵參數(shù)可任意調(diào)整，鍍層質(zhì)量和組分可調(diào)整，而且一旦未來開發(fā)出更先進(jìn)的抑菌鍍層，這種設(shè)備將十分有利于新抑菌鍍層的更新?lián)Q代和快速形成產(chǎn)業(yè)化。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人北京泰科諾科技有限公司;
- 發(fā)明人施戈;彭建;陳良賢;
- 地址102212 北京市昌平區(qū)崔村鎮(zhèn)西辛峰工業(yè)園村南6區(qū)1號
- 申請?zhí)?/b>CN201420785395.6
- 申請時(shí)間2014年12月11日
- 申請公布號CN204251694U
- 申請公布時(shí)間2015年04月08日
- 分類號C23C14/36(2006.01)I;
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