摘要：本發(fā)明涉及一種高硬度且成分均勻的PtIr合金薄膜及其制備技術(shù)。以該合金薄膜采用金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)技術(shù)制備。合金成分(Ir元素重量百分比)在4-45％之間，合金成分波動(dòng)幅度在5％以內(nèi)；合金純度在99.08-99.63％之間。與傳統(tǒng)鑄造加工技術(shù)制備的PtIr合金相比，本發(fā)明方法制備的PtIr合金硬度大(MOCVD法制備合金維氏硬度為475-853，鑄造加工合金維氏硬度為150-350，MOCVD技術(shù)制備的PtIr合金硬度是鑄造法制備的同含量PtIr合金的2.5-3.0倍)，并可節(jié)省貴金屬。本發(fā)明方法制備的PtIr合金可應(yīng)用于高溫保護(hù)涂層和電接觸材料領(lǐng)域。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人貴研鉑業(yè)股份有限公司;
- 發(fā)明人胡昌義;陳力;魏燕;蔡宏中;毛傳軍;王云;
- 地址650106云南省昆明市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)科技路988號(hào)(貴研鉑業(yè)股份有限公司)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200910094859.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2009年08月21日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN101643894A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2010年02月10日
- 分類號(hào)C23C16/18(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;F02K1/00(2006.01)I;
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