摘要：本發(fā)明涉及一種白光干涉測(cè)量樣品表面形狀精細(xì)分布的方法及裝置。其方法是將一束白光分別投射到樣品和參考鏡表面，兩表面反射光再合成一束光投射在CCD相機(jī)感光面形成干涉條紋；通過(guò)改變樣品和物鏡的間距，在感光面上形成多幅干涉圖像，輸入計(jì)算機(jī)后得到振幅調(diào)制信號(hào)與光源的光譜分布相關(guān)的余弦函數(shù)的分布，通過(guò)非等間隔時(shí)間采樣方法采得若干振幅調(diào)制信號(hào)的離散值，進(jìn)而求得樣品表面的相對(duì)高度。測(cè)量裝置由光源、半反半透分光鏡、CCD相機(jī)、干涉顯微物鏡和樣品臺(tái)等組成，分光鏡將光源光束分為反射和透射兩束光，CCD相機(jī)和干涉顯微物鏡分別設(shè)在其透射和反射光軸方向上，CCD相機(jī)與計(jì)算機(jī)控制連接，干涉顯微物鏡可由計(jì)算機(jī)控制做上下移動(dòng)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京普瑞微納科技有限公司;
- 發(fā)明人張民芳;成武;
- 地址100190 北京市海淀區(qū)中關(guān)村東路95號(hào)8號(hào)樓415室
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200710018030.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2007年06月12日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN101324422B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2011年01月19日
- 分類號(hào)G01B9/023(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;
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