摘要：本實(shí)用新型提供了一種高靈敏度長(zhǎng)度測(cè)量用的干涉儀，適合于測(cè)量長(zhǎng)度、微小位移量。它是在G·W·stroke干涉儀上，增加了棱鏡和平面反射鏡。它在不需電子倍頻裝置的情況下，可使測(cè)量格值為任意值。通過(guò)增減棱鏡的個(gè)數(shù)，滿足不同測(cè)量靈敏度的要求。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京光學(xué)儀器廠;
- 發(fā)明人吳振華;
- 地址北京市通縣北京光學(xué)儀器廠
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN86202036
- 申請(qǐng)時(shí)間1986年04月12日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN86202036U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間1987年04月01日
- 分類號(hào)G01B9/02;G01B11/02;
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