摘要：用光學(xué)方法和衍射光柵元件測量固體的變形。本發(fā)明為用于云紋干涉法的位相型閃耀衍射光柵。其光柵波形為等腰三角形，用刻線機刻制光柵模板。采用試件柵的制備工藝，將模板柵線波形復(fù)制在構(gòu)件表面上，形成試件柵。根據(jù)需要可選擇不同等腰三角形的斜面傾角β和光柵節(jié)距P，使對稱入射的兩相干準直光在所需要的±m(xù)衍射級上進行閃耀，使在該衍射級上獲得最大光強，且光強比接近于1，以獲得高靈敏度，高反差的云紋干涉條紋圖。此法為光測力學(xué)開辟了新的途徑。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人清華大學(xué);北京光學(xué)儀器廠;
- 發(fā)明人傅承誦;吳振華;戴福隆;
- 地址北京市海淀區(qū)清華園
- 申請?zhí)?/b>CN85100054
- 申請時間1985年04月01日
- 申請公布號CN85100054A
- 申請公布時間1986年08月06日
- 分類號G02B5/18;
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