摘要：本發(fā)明公開了一種能定量檢驗I型凹面光柵分度誤差的方法。它通過檢驗I型凹面光柵正負(fù)極光譜的衍射光束形成的干涉條紋，確定I型凹面光柵分度誤差。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京光學(xué)儀器廠;
- 發(fā)明人吳振華;
- 地址北京市通縣
- 申請?zhí)?/b>CN86107454
- 申請時間1986年11月07日
- 申請公布號CN86107454A
- 申請公布時間1988年05月18日
- 分類號G01M11/02;
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