摘要：本實用新型公開了一種水表防霧抗菌裝置，包括水表刻度盤、透明罩，其特征在于：水表刻度盤上表面和透明罩下表面設(shè)有一層防霧抗菌薄膜；所述防霧抗菌薄膜為超親水的二氧化鈦薄膜，厚度為30nm～200nm。本實用新型提供一種水表防霧抗菌裝置具有如下優(yōu)點：二氧化鈦薄膜具有光催化性，達(dá)到抗菌、自潔效果，使用壽命長；超親水能力，可以使凝結(jié)在表面的水滴迅速均勻分散，達(dá)到防霧效果。
- 專利類型實用新型
- 申請人西華大學(xué);
- 發(fā)明人楊倫;李超;馬素德;
- 地址610039 四川省成都市金牛區(qū)金周路999號
- 申請?zhí)?/b>CN201520071693.3
- 申請時間2015年02月02日
- 申請公布號CN204359380U
- 申請公布時間2015年05月27日
- 分類號G01F15/12(2006.01)I;
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