摘要：本實(shí)用新型提供了一種復(fù)合離子源裝置及質(zhì)譜儀。復(fù)合離子源裝置包括：殼體和安裝在殼體內(nèi)的電子轟擊離子源，其還包括至少一個(gè)用于產(chǎn)生紫外光的紫外光源，離子化室上具有至少一個(gè)透光孔，每個(gè)透光孔與相應(yīng)的紫外光源照射位置相對(duì)應(yīng)，并且透光孔位于推斥電極和引入電極之間，在每個(gè)紫外光源的照射光路上并鄰近透光孔位置安裝一個(gè)聚焦透鏡。本實(shí)用新型質(zhì)譜儀安裝有本實(shí)用新型的復(fù)合離子源裝置。本實(shí)用新型中借由電子轟擊離子源裝置中的離子化室、樣品進(jìn)樣管和離子透鏡加上紫外光源形成了光子轟擊離子源裝置?？梢愿鶕?jù)待測(cè)試樣品的類型選擇使用電子轟擊離子源裝置或者光子轟擊離子源裝置，或者二者同時(shí)使用。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京普析通用儀器有限責(zé)任公司;
- 發(fā)明人張小華;張華;商穎健;薛孟謙;
- 地址101200 北京市平谷區(qū)平三路3號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201220079088.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年03月05日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN202454525U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年09月26日
- 分類號(hào)H01J49/10(2006.01)I;G01N27/62(2006.01)I;
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