摘要：本發(fā)明公開了一種基于金屬平面微納線尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面微納線尖有序密集排布構(gòu)成的一層圖案化陰極和一層平面陽極，它們被分別制作在一層納米厚度的透光基膜/電絕緣膜的上下表面；在加電態(tài)下，陰極上可自由移動(dòng)的電子被陰陽電極間所激勵(lì)的電場(chǎng)驅(qū)控，向金屬平面微納線尖簇其各納線尖頂聚集，納線尖金屬電連接線上的自由電子分布密度因部分甚至絕大多數(shù)電子被納線尖頂抽走而減少甚至急劇降低。本發(fā)明基于金屬平面微納線尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜可對(duì)較寬譜域內(nèi)的入射波束的光透過率執(zhí)行電控調(diào)變，具有偏振不敏感、驅(qū)控靈活以及調(diào)光響應(yīng)快等特點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人華中科技大學(xué);
- 發(fā)明人張新宇;吳勇;彭莎;袁瑩;張波;信釗煒;魏東;王海衛(wèi);謝長(zhǎng)生;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201610390204.X
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年06月02日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN105938260A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年09月14日
- 分類號(hào)G02F1/01(2006.01)I;
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