摘要：本發(fā)明公開了一種基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜，其包括：由金屬平面納尖簇線密集排布構(gòu)成的一層圖案化陽極和一層平面金屬納膜陰極/陽極，它們被分別制作在透光的納米厚度的基膜/光學(xué)介質(zhì)層的兩個外表面上；在加電態(tài)下，圖案化陽極中的金屬平面納尖與金屬納膜陰極/陽極間形成局域彎曲的銳化電場陣，陰極/陽極上可自由移動的電子被陰陽電極間所激勵的陣列化納電場驅(qū)控，向各納電場中電場強度最強部位聚集。本發(fā)明基于金屬基平面納尖簇電極的電調(diào)透光率薄膜可對寬譜域內(nèi)的強功率入射波束的光透過率執(zhí)行電控調(diào)變，具有偏振不敏感、驅(qū)控靈活及調(diào)光響應(yīng)快的特點。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人華中科技大學(xué);
- 發(fā)明人張新宇;彭莎;吳勇;袁瑩;張波;魏東;信釗煒;王海衛(wèi);謝長生;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號
- 申請?zhí)?/b>CN201610388269.0
- 申請時間2016年06月02日
- 申請公布號CN105938259A
- 申請公布時間2016年09月14日
- 分類號G02F1/01(2006.01)I;
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