摘要：本發(fā)明涉及一種分析裝置，包括真空腔、電極組、離子傳輸單元、質(zhì)量分析單元和控制單元，其特點(diǎn)是：所述真空腔內(nèi)安裝至少兩個電離源；所述分析裝置還包括隔斷單元，所述隔斷單元與每個電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間，實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷；所述控制單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式，以實(shí)現(xiàn)在不同的電離源工作模式下相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。本發(fā)明還提供了一種分析方法。本發(fā)明具有檢測范圍寬、不同工作模式間切換便捷等優(yōu)點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人聚光科技（杭州）股份有限公司;
- 發(fā)明人劉立鵬;胡建坤;鄭毅;韓雙來;李綱;鄧豐濤;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區(qū)濱安路760號
- 申請?zhí)?/b>CN201410521304.2
- 申請時間2014年09月30日
- 申請公布號CN104347343A
- 申請公布時間2015年02月11日
- 分類號H01J49/26(2006.01)I;H01J49/12(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I;
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