摘要：本發(fā)明公開了一種旋轉(zhuǎn)可調(diào)α源照射裝置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架設(shè)有回轉(zhuǎn)平臺，所述回轉(zhuǎn)平臺上設(shè)有多個樣品培養(yǎng)皿，所述回轉(zhuǎn)平臺下方的支架上架設(shè)有可升降的α源照射機構(gòu)，所述回轉(zhuǎn)平臺由電機驅(qū)動。本發(fā)明設(shè)計合理，通過調(diào)節(jié)放射源高度，樣品臺轉(zhuǎn)速，粒子出口角度等方式對細胞所受輻射的劑量進行調(diào)節(jié)，具有造價便宜，可進行不同劑量，劑量率和LET照射，照射劑量準確，可控性好等性能。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人合肥聚能電物理高技術(shù)開發(fā)有限公司;
- 發(fā)明人吳杰鋒;劉志宏;薛延河;陳建林;張懷斌;商明明;
- 地址230031 安徽省合肥市蜀山區(qū)董鋪島
- 申請?zhí)?/b>CN201210064552.X
- 申請時間2012年03月13日
- 申請公布號CN102604829B
- 申請公布時間2013年10月09日
- 分類號C12M1/42(2006.01)I;
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