摘要：本發(fā)明公開(kāi)了一種旋轉(zhuǎn)可調(diào)α源照射裝置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架設(shè)有回轉(zhuǎn)平臺(tái)，所述回轉(zhuǎn)平臺(tái)上設(shè)有多個(gè)樣品培養(yǎng)皿，所述回轉(zhuǎn)平臺(tái)下方的支架上架設(shè)有可升降的α源照射機(jī)構(gòu)，所述回轉(zhuǎn)平臺(tái)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)。本發(fā)明設(shè)計(jì)合理，通過(guò)調(diào)節(jié)放射源高度，樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速，粒子出口角度等方式對(duì)細(xì)胞所受輻射的劑量進(jìn)行調(diào)節(jié)，具有造價(jià)便宜，可進(jìn)行不同劑量，劑量率和LET照射，照射劑量準(zhǔn)確，可控性好等性能。
- 專(zhuān)利類(lèi)型發(fā)明專(zhuān)利
- 申請(qǐng)人合肥聚能電物理高技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司;
- 發(fā)明人吳杰鋒;劉志宏;薛延河;陳建林;張懷斌;商明明;
- 地址230031 安徽省合肥市蜀山區(qū)董鋪島
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210064552.X
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年03月13日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102604829A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年07月25日
- 分類(lèi)號(hào)C12M1/42(2006.01)I;
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