摘要：本發(fā)明涉及用于刻蝕電子產品上銀漿的裝置及其方法，高頻率短脈沖激光器的輸出端布置有光閘，光閘的輸出端設置有擴束鏡，擴束鏡的輸出端依次布置有1/2波片和格蘭棱鏡，格蘭棱鏡的輸出端布置有45度全反射鏡，45度全反射鏡的輸出端依次布置有振鏡和掃描場鏡，掃描場鏡正對于四軸吸附平臺，四軸吸附平臺上安裝有同軸吹吸氣集塵系統(tǒng)，四軸吸附平臺對角位置分別安裝有CCD對位觀察系統(tǒng)。采用高頻率紅外脈沖激光器作為激光源，通過對角線CCD抓靶加工材料的靶標位置，確定加工圖形與平臺上的樣品位置一一對應，對不同觸摸屏產品中不可視區(qū)域銀漿或者銅薄膜或鉬鋁鉬層進行蝕刻，使不可視區(qū)域的薄膜材料在高頻率短脈沖紅外激光器作用下氣化而達到蝕除目的。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人蘇州德龍激光有限公司;江陰德力激光設備有限公司;
- 發(fā)明人趙裕興;狄建科;張偉;
- 地址215021 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)蘇虹中路77號
- 申請?zhí)?/b>CN201110128579.6
- 申請時間2011年05月18日
- 申請公布號CN102205468A
- 申請公布時間2011年10月05日
- 分類號B23K26/40(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;
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