摘要：本實(shí)用新型公開(kāi)了一種逆反射標(biāo)志測(cè)量?jī)x，其技術(shù)方案要點(diǎn)是包括光學(xué)暗箱和光源，光源設(shè)置在光學(xué)暗箱內(nèi)，光學(xué)暗箱的表面設(shè)置有開(kāi)口，開(kāi)口處設(shè)置有遮擋開(kāi)口的試樣，光學(xué)暗箱上設(shè)置有調(diào)節(jié)槽，調(diào)節(jié)槽內(nèi)設(shè)置有對(duì)試樣反射的光進(jìn)行引出的光纖，光纖連接有對(duì)光纖引出的光進(jìn)行檢測(cè)的光探測(cè)器，調(diào)節(jié)槽處設(shè)置有固定組件，光纖通過(guò)固定組件與光學(xué)暗箱可拆卸固定連接，達(dá)到了方便進(jìn)行多角度測(cè)量的目的。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京中交工程儀器研究所;
- 發(fā)明人楊宗文;
- 地址102600 北京市大興區(qū)黃村鎮(zhèn)劉一村委會(huì)西500米
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201620340310.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年04月21日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN205620301U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年10月05日
- 分類號(hào)G01N21/47(2006.01)I;
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