摘要：本發(fā)明公開了一種逆反射標志測量儀，其技術方案要點是包括光學暗箱和光源，光源設置在光學暗箱內，光學暗箱的表面設置有開口，開口處設置有遮擋開口的試樣，光學暗箱上設置有調節(jié)槽，調節(jié)槽內設置有對試樣反射的光進行引出的光纖，光纖連接有對光纖引出的光進行檢測的光探測器，調節(jié)槽處設置有固定組件，光纖通過固定組件與光學暗箱可拆卸固定連接，達到了方便進行多角度測量的目的。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京中交工程儀器研究所;
- 發(fā)明人楊宗文;
- 地址102600 北京市大興區(qū)黃村鎮(zhèn)劉一村委會西500米
- 申請?zhí)?/b>CN201610251119.5
- 申請時間2016年04月21日
- 申請公布號CN105758823A
- 申請公布時間2016年07月13日
- 分類號G01N21/47(2006.01)I;
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