摘要：本實(shí)用新型公開了一種逆反射標(biāo)志測量儀，其技術(shù)方案要點(diǎn)是包括光學(xué)暗箱和光源，光源設(shè)置在光學(xué)暗箱內(nèi)，光學(xué)暗箱的表面設(shè)置有開口，開口處設(shè)置有遮擋開口的試樣，光學(xué)暗箱上設(shè)置有調(diào)節(jié)槽，調(diào)節(jié)槽內(nèi)設(shè)置有對試樣反射的光進(jìn)行引出的多根光纖，每根光纖與試樣的一個放置角度相對應(yīng)且每根光纖連接一個對光纖引出的光進(jìn)行檢測的光探測器，調(diào)節(jié)槽處設(shè)置有帶有夾持槽的固定組件，夾持槽內(nèi)可拆卸固定連接有至少兩個塞尺，塞尺將夾持槽分隔成多個夾持腔，光纖夾持于夾持腔內(nèi)，光纖通過固定組件與光學(xué)暗箱可拆卸固定連接，達(dá)到了能夠進(jìn)行多角度測量且調(diào)節(jié)方便、準(zhǔn)確以及快速的目的。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人北京中交工程儀器研究所;
- 發(fā)明人楊宗文;
- 地址102600 北京市大興區(qū)黃村鎮(zhèn)劉一村委會西500米
- 申請?zhí)?/b>CN201620340361.5
- 申請時間2016年04月21日
- 申請公布號CN205620299U
- 申請公布時間2016年10月05日
- 分類號G01N21/17(2006.01)I;
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