摘要:本實(shí)用新型提出一種基質(zhì)輔助激光解析離子源進(jìn)樣裝置,該裝置包括樣品托盤;密封腔,密封腔內(nèi)具有第一真空度;真空腔,真空腔內(nèi)具有高于第一真空度的第二真空度,真空腔與密封腔相連且通過(guò)真空腔的前密封板與密封腔隔開(kāi);設(shè)在密封腔一側(cè)、用于將樣品托盤送入密封腔內(nèi)且從密封腔內(nèi)輸送到真空腔內(nèi)的第一級(jí)進(jìn)樣組件;設(shè)在真空腔內(nèi)且用于從第一級(jí)進(jìn)樣組件接納樣品托盤并將樣品托盤輸送至真空腔內(nèi)的檢測(cè)位置的第二級(jí)進(jìn)樣組件;密封門組件,密封門組件可打開(kāi)和關(guān)閉地設(shè)在真空腔的前密封板上;和真空泵,由此,根據(jù)本實(shí)用新型的進(jìn)樣裝置,能夠?qū)悠窂某涵h(huán)境平穩(wěn)地送入高真空環(huán)境內(nèi)且使樣品在進(jìn)樣過(guò)程中逐漸適應(yīng)真空度,保證樣品的檢測(cè)質(zhì)量。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人江蘇天瑞儀器股份有限公司;
- 發(fā)明人蔡克亞;陶占清;周立;
- 地址215300 江蘇省蘇州市昆山市中華園西路1888號(hào)天瑞產(chǎn)業(yè)園
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201220117195.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年03月26日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN202649168U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年01月02日
- 分類號(hào)G01N27/64(2006.01)I;




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