摘要：本實(shí)用新型涉及一種電極表面處理裝置，包括拋光機(jī)構(gòu)、夾緊機(jī)構(gòu)、動(dòng)力機(jī)構(gòu)和支座；所述拋光機(jī)構(gòu)、夾緊機(jī)構(gòu)分別設(shè)置在支座上；所述拋光機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤和拋光布，所述拋光布設(shè)置在轉(zhuǎn)盤上；所述夾緊機(jī)構(gòu)設(shè)置在拋光機(jī)構(gòu)的上方；所述夾緊機(jī)構(gòu)固定電極，使電極垂直于設(shè)置在轉(zhuǎn)盤上的拋光布，并承受壓力，使電極與拋光布相接觸；所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)電極表面的拋光，尤其是實(shí)現(xiàn)對(duì)內(nèi)外層材料不一、物理性質(zhì)差異較大的電極表面處理問題，本實(shí)用新型拋光效果好、可實(shí)施性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
- 專利類型實(shí)用新型
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