摘要：本發(fā)明公開了一種半導體設備工藝運行狀態(tài)的管理方法，包括：根據(jù)半導體工藝流程創(chuàng)建工藝運行狀態(tài)隊列、事件列表和轉換函數(shù)；根據(jù)上述工藝運行狀態(tài)隊列、事件列表和轉換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉換表；對所述二維狀態(tài)轉換表逐行或逐列查詢，依次生成多個狀態(tài)源臨時管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時管理文件記錄一個所述工藝運行狀態(tài)，其配置的一個所述轉換事件，以及所述工藝運行狀態(tài)經(jīng)該轉換事件后的狀態(tài)結果；以及將全部所述狀態(tài)源臨時管理文件合并生成動態(tài)配置管理文件。本發(fā)明能夠解決特定工藝和異常處理等狀態(tài)轉換效率低下和邏輯復雜造成的成功率低的問題。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人周法福;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201610564980.7
- 申請時間2016年07月18日
- 申請公布號CN106125682A
- 申請公布時間2016年11月16日
- 分類號G05B19/418(2006.01)I;
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