摘要：本發(fā)明公開(kāi)了一種選擇性吸收薄膜，包括自底向上層疊的基底、紅外反射層、相位匹配層、第一吸收層、第一減反射層、第二吸收層和第二減反射層；其紅外反射膜層采用金屬鋁薄膜層；第一吸收層和第二吸收層均采用金屬鈦薄膜層；第一減反射層、相位匹配層和第二減反射層均采用氮化硅薄膜層；本發(fā)明公開(kāi)的這種選擇性吸收薄膜對(duì)可見(jiàn)光和近紅外的吸收率高達(dá)到97％，對(duì)中遠(yuǎn)紅外的反射率高達(dá)96％，對(duì)于太陽(yáng)光具有良好的選擇吸收特性，具備耐磨損、耐腐蝕特性，生產(chǎn)成本低，制備工藝簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn)，且解決了現(xiàn)有選擇性吸收薄膜在非真空的高溫環(huán)境下不能長(zhǎng)期使用的問(wèn)題。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人華中科技大學(xué);
- 發(fā)明人王鮮;李博文;祁冬;王方;龔榮洲;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201610454442.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年06月21日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN106052171A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年10月26日
- 分類號(hào)F24J2/48(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;
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