摘要：本發(fā)明公開了一種低輻射薄膜，包括基底、覆蓋于基底之上的單銀層和覆蓋于單銀層之上的周期性多層膜，薄膜厚度為1325nm～1575.8nm；其中，單銀層由兩層保護(hù)層和Ag膜構(gòu)成，厚度為29nm～92nm；周期性多層膜由高折射率材料和低折射率材料交替疊加而成，厚度為1275nm～1490nm。本發(fā)明公開的低輻射薄膜采用金屬薄銀層來抑制長波長紅外波和短波長紫外波的透射，采用周期性結(jié)構(gòu)來增強(qiáng)可見光波段的透射；對(duì)可見光的透射率達(dá)到70～96％，對(duì)紫外波段的透射率降低到15％、對(duì)780nm～1200nm紅外波段的透射率降低到10％以下、對(duì)1200nm～3000nm紅外波段的透射率降低到25％以下，層數(shù)顯著降低，很大程度上縮減了成本，簡化了工藝流程。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人華中科技大學(xué);武漢伊美斯波譜技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人王鮮;祁冬;龔韋;龔榮洲;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510077005.9
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年02月12日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104608434A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年05月13日
- 分類號(hào)B32B9/04(2006.01)I;B32B15/00(2006.01)I;
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