摘要：本發(fā)明涉及硅片濕法清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種排風(fēng)裝置。該排風(fēng)裝置包括底腔、兆聲波裝置盛液槽、兆聲波裝置盛液槽固定支架、夾層及排風(fēng)調(diào)整單元，所述底腔固定于所述夾層頂部，所述兆聲波裝置盛液槽通過(guò)兆聲波裝置盛液槽固定支架固定于所述夾層上，夾層將整個(gè)工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元與夾層連接，用于調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。這樣排風(fēng)調(diào)整單元可通過(guò)有效的調(diào)整排風(fēng)量以保證工藝腔室內(nèi)部流場(chǎng)的均勻性；通過(guò)夾層能將工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)完全隔離開來(lái)，以防止工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對(duì)電氣部件造成損害。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人王波雷;王銳廷;張豹;姬丹丹;
- 地址100015 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210488684.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年11月26日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102989736B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年03月18日
- 分類號(hào)B08B15/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;
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