摘要：本發(fā)明涉及硅片濕法清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種排風(fēng)裝置。該排風(fēng)裝置包括底腔、兆聲波裝置盛液槽、兆聲波裝置盛液槽固定支架、夾層及排風(fēng)調(diào)整單元，所述底腔固定于所述夾層頂部，所述兆聲波裝置盛液槽通過兆聲波裝置盛液槽固定支架固定于所述夾層上，夾層將整個工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元與夾層連接，用于調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。這樣排風(fēng)調(diào)整單元可通過有效的調(diào)整排風(fēng)量以保證工藝腔室內(nèi)部流場的均勻性；通過夾層能將工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)完全隔離開來，以防止工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對電氣部件造成損害。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人王波雷;王銳廷;張豹;姬丹丹;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201210488684.5
- 申請時間2012年11月26日
- 申請公布號CN102989736B
- 申請公布時間2015年03月18日
- 分類號B08B15/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;
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