摘要：本發(fā)明公開了一種光譜儀的電子控制的流氣體密度穩(wěn)定裝置，采用密閉腔作為參考腔，密閉腔里預先沖入工作氣體，密閉腔的氣體壓強通過連接在密閉腔上的壓力傳感器監(jiān)控；通過繼續(xù)充入或微量放氣來調(diào)節(jié)密閉腔的壓力到需要值，通過微流量比例控制閥來控制工作氣體輸入到流動腔的氣體流量；流動腔的氣體由微流量比例控制閥控制泄放量，密閉腔和流動腔的壓強差通過微壓差傳感器檢測；流動腔與密閉腔處于相同的溫度下，調(diào)節(jié)往流動腔補充氣體的微流量比例控制閥和控制流動腔氣體泄放的微流量比例控制閥，使流動腔的氣體壓力與密閉腔的氣體壓力維持為0或設(shè)定值，來達到流動腔氣體密度穩(wěn)定的目的。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人深圳市華唯計量技術(shù)開發(fā)有限公司;
- 發(fā)明人劉小東;
- 地址100035 北京市西城區(qū)西直門南大街2號成銘大廈B2座14G
- 申請?zhí)?/b>CN201210060235.0
- 申請時間2012年03月09日
- 申請公布號CN102681003A
- 申請公布時間2012年09月19日
- 分類號G01T7/00(2006.01)I;
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