摘要：本發(fā)明公開了一種光譜儀的電子控制的流氣體密度穩(wěn)定裝置，采用密閉腔作為參考腔，密閉腔里預(yù)先沖入工作氣體，密閉腔的氣體壓強(qiáng)通過連接在密閉腔上的壓力傳感器監(jiān)控；通過繼續(xù)充入或微量放氣來調(diào)節(jié)密閉腔的壓力到需要值，通過微流量比例控制閥來控制工作氣體輸入到流動(dòng)腔的氣體流量；流動(dòng)腔的氣體由微流量比例控制閥控制泄放量，密閉腔和流動(dòng)腔的壓強(qiáng)差通過微壓差傳感器檢測；流動(dòng)腔與密閉腔處于相同的溫度下，調(diào)節(jié)往流動(dòng)腔補(bǔ)充氣體的微流量比例控制閥和控制流動(dòng)腔氣體泄放的微流量比例控制閥，使流動(dòng)腔的氣體壓力與密閉腔的氣體壓力維持為0或設(shè)定值，來達(dá)到流動(dòng)腔氣體密度穩(wěn)定的目的。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人深圳市華唯計(jì)量技術(shù)開發(fā)有限公司;
- 發(fā)明人劉小東;
- 地址100035 北京市西城區(qū)西直門南大街2號(hào)成銘大廈B2座14G
- 申請?zhí)?/b>CN201210060235.0
- 申請時(shí)間2012年03月09日
- 申請公布號(hào)CN102681003A
- 申請公布時(shí)間2012年09月19日
- 分類號(hào)G01T7/00(2006.01)I;
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