摘要：本發(fā)明涉及氣體的在位測量方法，特點(diǎn)是：光源發(fā)出的測量光在光源和探測器之間形成測量光路，測量光路上具有測量區(qū)域和非測量區(qū)域；所述非測量區(qū)域內(nèi)通有第一氣體，第一氣體中含有被測氣體；第一氣體經(jīng)過氣流延時(shí)后進(jìn)入非測量區(qū)域；在氣流延時(shí)前或延時(shí)中，測得第一氣體中被測氣體的濃度；分析測量光在測量區(qū)域和非測量區(qū)域的衰減，并利用第一氣體中被測氣體的濃度，從而獲得測量區(qū)域內(nèi)被測氣體的濃度。本發(fā)明具有測量精度高等優(yōu)點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人聚光科技(杭州)股份有限公司;
- 發(fā)明人林德寶;陳生龍;戰(zhàn)宏亮;俞大海;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區(qū)濱安路760號(hào)
- 申請?zhí)?/b>CN201010622384.2
- 申請時(shí)間2010年12月31日
- 申請公布號(hào)CN102175642B
- 申請公布時(shí)間2012年12月12日
- 分類號(hào)G01N21/39(2006.01)I;G01N27/407(2006.01)I;G01N24/10(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I;
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