摘要：本發(fā)明公開了一種低雜散光單色儀，其特征在于入射狹縫所在平面與入射光軸傾斜相交，出射狹縫所在平面與出射光軸傾斜相交。通過這種方式，原本會引起雜散光的非期望光路的光線被入射狹縫或出射狹縫反射到期望光路以外，從而大幅減少雜散光。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人杭州遠(yuǎn)方光電信息股份有限公司;
- 發(fā)明人潘建根;
- 地址310053 浙江省杭州市濱江區(qū)濱康路669號
- 申請?zhí)?/b>CN201010237108.4
- 申請時間2010年07月26日
- 申請公布號CN101907491B
- 申請公布時間2013年10月30日
- 分類號G01J3/12(2006.01)I;G01J3/18(2006.01)I;
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