摘要:GaN基化合物半導(dǎo)體發(fā)光器件P型電極,由GaN基半導(dǎo)體層之上的導(dǎo)電金屬半透明電極部分和表面粗糙光學(xué)透明晶體部分構(gòu)成。其制法為:在GaN基半導(dǎo)體層之上用電子束蒸發(fā)法蒸鍍用于與P型GaN基半導(dǎo)體層間形成歐姆接觸的金屬層;而后在400℃~600℃的溫度下在含氧的氣氛中退火,使金屬變成與P型氮化物半導(dǎo)體材料層具有良好歐姆接觸的半透明電極;繼而在電極上用直接方式或者間接方式在20℃~600℃的溫度下制備表面粗糙的透明晶體層。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明除了具有良好透光率、低電阻率和與P型GaN間有良好的歐姆接觸的特點(diǎn)外,還具有可以提高器件的發(fā)光效率、大幅降低成本和工藝過程簡單的特點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人大連路明科技集團(tuán)有限公司;
- 發(fā)明人陳顯峰;胡禮中;肖志國;
- 地址116025遼寧省大連市高新園區(qū)七賢嶺高能街1號
- 申請?zhí)?/b>CN200610093382.2
- 申請時(shí)間2006年06月21日
- 申請公布號CN101093866A
- 申請公布時(shí)間2007年12月26日
- 分類號H01L33/00(2006.01);




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