簡(jiǎn)介：
Lumina AT1可以在4分鐘內(nèi)完成150毫米晶圓的掃描，對(duì)于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。
樣品300 x 300 mm。
廠(chǎng)商簡(jiǎn)介
Lumina Instruments，總部位于美國(guó)加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測(cè)創(chuàng)新了更快速準(zhǔn)確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.
技術(shù)創(chuàng)新
將樣片放入系統(tǒng)中，3~5分鐘即可完成掃描。
收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進(jìn)行進(jìn)一步分析。
將樣品放入系統(tǒng)
直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)，反射光和散射光由四個(gè)探測(cè)器捕獲。
四通道檢測(cè)
AT1有四個(gè)檢測(cè)通道。它們同時(shí)運(yùn)行以生成四個(gè)獨(dú)立的圖像。每個(gè)通道有助于檢測(cè)和分類(lèi)某些缺陷。
極化：薄膜缺陷、污漬反射率：劃痕、內(nèi)應(yīng)力*、玻璃內(nèi)的條紋*坡度：劃痕、凹坑、凸起、表面形貌暗場(chǎng)：納米顆粒、包裹體
Lumian AT1和AT1-Auto:AT1采取的樣品的尺寸為300mm，AT1-Auto采取樣品的
尺寸為200mm。光斑的大小都在30μm。靈敏度(PSLon玻璃)在150nm;掃描的出結(jié)果的時(shí)間在4/7/15.5min。
AT1應(yīng)用案例：
l 透明/非透明材質(zhì)表面缺陷的檢測(cè)。
l MOCVD外延生長(zhǎng)成膜缺陷管控
l PR膜厚均一性評(píng)價(jià)
l Clean制程清洗效果評(píng)價(jià)
l Wafer在CMP后表面缺陷分析
l 多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，如ARVR、Glass、光掩模版藍(lán)寶石、Si wafel等、
l 內(nèi)應(yīng)力：生產(chǎn)過(guò)程中玻璃內(nèi)部形成的張力或折射率內(nèi)部變化。
l 污漬：由于薄膜殘留或清洗過(guò)程導(dǎo)致表面變色。
產(chǎn)品規(guī)格：
AT1
系統(tǒng)規(guī)格
掃描時(shí)間:3分鐘內(nèi)掃描150mm晶圓
掃描范圍:300 x 300mm
靈敏度: 薄膜缺陷<0.5nm
顆粒，硅上100nm PSL
顆粒，玻璃上150nm PSL
標(biāo)刻:金剛石標(biāo)刻
溫度:18-30攝氏度
電壓:120/230VAC
電流:6A/4A
重量:370Kg(815榜)
尺寸:880 x 743 x2005mm
(34.6 x29.2x79英寸)
