摘要：本實(shí)用新型公開了一種太陽(yáng)能硅電池濕法刻蝕機(jī)刻蝕段雙層抽風(fēng)系統(tǒng)，所述系統(tǒng)為水平傳輸?shù)逆準(zhǔn)浇Y(jié)構(gòu)，其特征在于：所述系統(tǒng)包括槽體、第一層蓋板和第二層蓋板，在槽體刻蝕段入料方向與出料方向各有一個(gè)抽風(fēng)口；所述抽風(fēng)口連接槽體第一層蓋板，該蓋板上設(shè)有抽風(fēng)分流口，同時(shí)該蓋板還設(shè)有進(jìn)新風(fēng)口；所述第一層蓋板與第二層蓋板之間設(shè)置一層緩沖區(qū)；所述緩沖區(qū)下方安裝第二層蓋板，該蓋板上密集的開了若干小孔。本實(shí)用新型的有益效果是：利用第一層蓋板進(jìn)行抽風(fēng)壓力的第一次分流，經(jīng)過緩沖區(qū)緩沖與均勻化以后，第二層蓋板整個(gè)刻蝕區(qū)抽風(fēng)十分均勻，解決了原刻蝕機(jī)因抽風(fēng)段抽風(fēng)不均勻所引起的硅片方塊電阻不均勻的飄升現(xiàn)象，保證了電池片出片的品質(zhì)。
- 專利類型實(shí)用新型
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- 發(fā)明人錢誠(chéng);吳兵;
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- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201220111882.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年03月21日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN202855716U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年04月03日
- 分類號(hào)H01L21/306(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;
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