摘要：本實(shí)用新型涉及一種用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載工具，特別涉及一種X射線顯微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片襯底、氮化硅薄膜窗口溝槽、控制厚度的低應(yīng)力氮化硅薄膜，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅薄膜，比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用。本實(shí)用新型的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域氮化硅薄膜窗口成膜光滑，強(qiáng)度大、致密性好，表面平整性很穩(wěn)定(粗糙度小于1nm)，可應(yīng)用于高溫領(lǐng)域，具備較好的薄膜窗格透光性能。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人上海納騰儀器有限公司;
- 發(fā)明人侯克玉;賀周同;孔旭東;王晟;
- 地址201616 上海市松江區(qū)小昆山鎮(zhèn)秦安街18號(hào)A區(qū)3號(hào)房H座
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201020214623.6
- 申請(qǐng)時(shí)間2010年06月01日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN201689695U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2010年12月29日
- 分類號(hào)G21K7/00(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;C23F1/12(2006.01)I;
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