摘要：本發(fā)明提供了一種基于納米多孔金的熒光增強(qiáng)基底的制備方法，其包括如下步驟：將金銀合金薄膜置于濃硝酸中進(jìn)行腐蝕，得到前驅(qū)體一；將所述前驅(qū)體一的多孔金薄膜至于純水中多次漂洗，得到前驅(qū)體二；在所述前驅(qū)體二的表面利用物理氣相沉積法沉積出二氧化硅薄膜，得到所述熒光增強(qiáng)基底。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果：利用物理氣相沉積的方法，在不同孔徑的多空金表面沉積不同厚度的二氧化硅薄膜，可以制備出不同孔徑不同厚度二氧化硅修飾的納米多孔金；這種基底材料可以實(shí)現(xiàn)對不同熒光物質(zhì)的熒光增強(qiáng)，且對于不同的熒光物質(zhì)，最佳增強(qiáng)對應(yīng)的多孔金孔徑和表面的二氧化硅厚度不同，拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人上海朗研光電科技有限公司;
- 發(fā)明人曾和平;張玲;陳超;
- 地址200237 上海市閔行區(qū)春申路1985弄69號2319室1區(qū)
- 申請?zhí)?/b>CN201610701397.6
- 申請時(shí)間2016年08月22日
- 申請公布號CN106350058A
- 申請公布時(shí)間2017年01月25日
- 分類號C09K11/02(2006.01)I;C09K11/58(2006.01)I;B82Y20/00(2011.01)I;
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