摘要：本發(fā)明公開了一種瓷負(fù)型造跡的方法，先用泥與釉料混合（形成自己想要的色彩），再用此釉料及泥在泥胎上塑造自己想要的形態(tài)，待釉料干燥后，再剔除使剝離泥及釉料而殘留下跡象即“負(fù)型”，再進(jìn)窯爐燒制而成瓷?；蛘咴谝呀?jīng)施了釉料的泥胎上塑造所需要的型，等待干燥后剝離所造正型，在此前釉料上留下負(fù)型痕跡。本發(fā)明瓷負(fù)型造跡的方法能夠有效地減低釉料由于熱膨脹拉伸或冷切導(dǎo)致的釉斷泥胎、泥板的現(xiàn)象發(fā)生，減少由于釉料堆積過高、過厚而引起的“縮釉”現(xiàn)象發(fā)生。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人常熟理工學(xué)院;
- 發(fā)明人王昭旻;
- 地址215500 江蘇省蘇州市常熟市南三環(huán)99號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510269390.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年05月25日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104924828A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年09月23日
- 分類號(hào)B44C5/00(2006.01)I;
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