摘要:本發(fā)明公開了一種高性能光譜選擇性吸波元件及太陽能熱光伏系統(tǒng),包括金屬基底、低折射率介質(zhì)第一薄膜、高折射率半導(dǎo)體納米方塊陣列、低折射率介質(zhì)第二薄膜和低折射率介質(zhì)第三薄膜;低折射率介質(zhì)第一薄膜均勻覆蓋在金屬基底上,其上構(gòu)建棋盤狀周期排列的高折射率半導(dǎo)體納米方塊陣列,在高折射率半導(dǎo)體納米方塊陣列之間填充低折射率介質(zhì)第二薄膜,在其頂部覆蓋低折射率介質(zhì)第三薄膜。本發(fā)明通過對(duì)金屬表面介質(zhì)薄膜的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),獲得良好的光譜選擇性;通過選擇不同的金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料,和(或)改變結(jié)構(gòu)參數(shù),實(shí)現(xiàn)靈活的截止波長(zhǎng)調(diào)控及光譜選擇性;本發(fā)明同樣適用于耐高溫的金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料,可在太陽能熱光伏系統(tǒng)中得到廣泛應(yīng)用。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人浙江大學(xué);
- 發(fā)明人莫磊;楊柳;陳拓;何賽靈;
- 地址310027 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510026282.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年01月20日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104553221B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2017年01月04日
- 分類號(hào)B32B33/00(2006.01)I;H02S10/30(2014.01)I;




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