摘要:本發(fā)明公開了一種WS2納米瓦/石墨烯復合納米材料及其制備方法,其由少層數(shù)的WS2納米瓦/石墨烯復合構成,WS2納米瓦的層數(shù)在2~6層,平均層數(shù)為3~5層,WS2納米瓦與石墨烯之間的物質的量之比為?1:1-1:4。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中,再加入雙子表面活性劑,并充分攪拌,然后依次加入L-半胱氨酸和硫代鎢酸銨,并充分攪拌使其溶解,將上述混合分散體系轉移到水熱反應釜中,于230-250℃下水熱反應20-24?h后,自然冷卻至室溫,離心收集固體產(chǎn)物,用去離子水充分洗滌,干燥,最后熱處理得到WS2納米瓦/石墨烯復合納本材料。本發(fā)明的方法簡單、方便,不需要消耗有機溶劑。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人浙江大學;
- 發(fā)明人陳衛(wèi)祥;陳濤;黃國創(chuàng);王臻;
- 地址310027 浙江省杭州市浙大路38號
- 申請?zhí)?/b>CN201410339887.7
- 申請時間2014年07月17日
- 申請公布號CN104091947B
- 申請公布時間2016年06月22日
- 分類號H01M4/58(2010.01)I;H01M4/38(2006.01)I;




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