摘要：本發(fā)明公開了單晶材料定向標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域中的一種在立方晶體背射勞埃照片上標(biāo)定（111）晶面的方法。包括：獲取勞埃照片并測量勞埃照片與晶體間距離h；在勞埃照片的三條低指數(shù)晶帶上分別找出一個屬于同一晶面族的衍射斑點；在勞埃照片底部襯上一張坐標(biāo)紙；調(diào)整勞埃照片，使得三個衍射斑點中的任意兩個衍射斑點分別位于坐標(biāo)紙原點和x軸正方向上；根據(jù)三個衍射斑點的坐標(biāo)、勞埃照片中心點的坐標(biāo)和距離h，求解（111）晶面的衍射斑點的坐標(biāo)；根據(jù)（111）晶面的衍射斑點的坐標(biāo)，將（111）晶面標(biāo)定在勞埃照片上。本發(fā)明借助坐標(biāo)紙直接在勞埃照片上標(biāo)定（111）晶面，計算簡單且計算速度快，同時避免了中間步驟帶來的計算誤差。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人華北電力大學(xué);
- 發(fā)明人馬雁;許雁澤;張書玉;陳義學(xué);
- 地址102206 北京市昌平區(qū)回龍觀朱辛莊2號
- 申請?zhí)?/b>CN201310541278.5
- 申請時間2013年11月05日
- 申請公布號CN103529066B
- 申請公布時間2016年01月13日
- 分類號G01N23/20(2006.01)I;
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