摘要:本發(fā)明公開了單晶材料定向標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域中的一種在立方晶體背射勞埃照片上標(biāo)定(111)晶面的方法。包括:獲取勞埃照片并測(cè)量勞埃照片與晶體間距離h;在勞埃照片的三條低指數(shù)晶帶上分別找出一個(gè)屬于同一晶面族的衍射斑點(diǎn);在勞埃照片底部襯上一張坐標(biāo)紙;調(diào)整勞埃照片,使得三個(gè)衍射斑點(diǎn)中的任意兩個(gè)衍射斑點(diǎn)分別位于坐標(biāo)紙?jiān)c(diǎn)和x軸正方向上;根據(jù)三個(gè)衍射斑點(diǎn)的坐標(biāo)、勞埃照片中心點(diǎn)的坐標(biāo)和距離h,求解(111)晶面的衍射斑點(diǎn)的坐標(biāo);根據(jù)(111)晶面的衍射斑點(diǎn)的坐標(biāo),將(111)晶面標(biāo)定在勞埃照片上。本發(fā)明借助坐標(biāo)紙直接在勞埃照片上標(biāo)定(111)晶面,計(jì)算簡(jiǎn)單且計(jì)算速度快,同時(shí)避免了中間步驟帶來(lái)的計(jì)算誤差。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人華北電力大學(xué);
- 發(fā)明人馬雁;許雁澤;張書玉;陳義學(xué);
- 地址102206 北京市昌平區(qū)回龍觀朱辛莊2號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201310541278.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年11月05日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN103529066B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年01月13日
- 分類號(hào)G01N23/20(2006.01)I;




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