摘要：本發(fā)明涉及一種動態(tài)壓力校準(zhǔn)裝置，提供一種具有濾波特性的正弦壓力發(fā)生腔，它包括主輔結(jié)構(gòu)正弦壓力腔體，其兩側(cè)分別為輔正弦壓力腔和主正弦壓力腔，在輔正弦壓力腔和主正弦壓力腔之間相連通的通道內(nèi)放置有機(jī)械濾波器；輔正弦壓力腔頂部和底部分別開槽形成傳感器安裝位置一和傳感器安裝位置二；主正弦壓力腔頂部和底部分別開通孔形成進(jìn)氣口和排氣口；主輔結(jié)構(gòu)正弦壓力腔體的主正弦壓力腔部分固定在一個(gè)腔支撐體中部開有的中孔內(nèi)；腔支撐體頂部開有氣體入口，底部開有兩個(gè)方孔一和方孔二。本發(fā)明裝置能夠消除高次諧波的影響，同時(shí)降低機(jī)械加工難度，提高機(jī)械加工精度，極大的改善正弦壓力發(fā)生器所產(chǎn)生的正弦壓力波形的失真度和動靜幅值比。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京航天計(jì)量測試技術(shù)研究所;
- 發(fā)明人張大有;張東輝;朱剛;閆磊;
- 地址100076 北京市豐臺區(qū)南大紅門路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201010513815.1
- 申請時(shí)間2010年10月20日
- 申請公布號CN101979980B
- 申請公布時(shí)間2012年01月25日
- 分類號G01L27/00(2006.01)I;
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