摘要：本發(fā)明公開了一種半導體端面泵浦高功率單模風冷激光器。第一泵浦源LD與第一耦合聚焦系統(tǒng)之間、第二泵浦源LD與第二耦合聚焦系統(tǒng)之間分別通過光纖連接；第一耦合聚焦系統(tǒng)和第二耦合聚焦系統(tǒng)輸出的激光分別入射到所述增益介質；第一耦合聚焦系統(tǒng)和第二耦合聚焦系統(tǒng)與增益介質之間分別設有第一折反鏡和第二折反鏡；第一折反鏡的反射光路上設有熱透鏡補償全反鏡；第二折反鏡的反射光路上設有調Q開關和全反鏡；增益介質外側設有第一溫度控制裝置和第二溫度控制裝置，分別用于控制與增益介質的a軸垂直的所有表面和與增益介質的c軸垂直的所有表面的溫度。本發(fā)明的激光器功率大、效率高且發(fā)出的光束質量優(yōu)良。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人武漢華工激光工程有限責任公司;
- 發(fā)明人盧飛星;閔大勇;
- 地址430223 湖北省武漢市東湖高新技術開發(fā)區(qū)華中科技大學科技園華工科技激光產業(yè)園
- 申請?zhí)?/b>CN200910136518.7
- 申請時間2009年05月06日
- 申請公布號CN101882750A
- 申請公布時間2010年11月10日
- 分類號H01S3/14(2006.01)I;H01S3/16(2006.01)I;H01S3/10(2006.01)I;H01S3/101(2006.01)I;H01S3/11(2006.01)I;H01S3/042(2006.01)I;H01S3/081(2006.01)I;H01S3/09(2006.01)I;
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