摘要：本發(fā)明公開了一種磁共振設(shè)備中的局部線圈。本發(fā)明中局部線圈由第一線圈和第二線圈構(gòu)成，第二線圈針對(duì)該局部線圈所處區(qū)域進(jìn)行勻場(chǎng)處理，提高了該區(qū)域的主磁場(chǎng)均勻度，且接收磁共振信號(hào)的第一線圈所產(chǎn)生的磁場(chǎng)與進(jìn)行勻場(chǎng)處理的第二線圈所產(chǎn)生的磁場(chǎng)不平行，從而保證二者不會(huì)發(fā)生耦合、以避免二者相互影響對(duì)方性能，因而能夠提高該局部線圈所處區(qū)域的局部成像質(zhì)量。而且，將該局部線圈設(shè)置于在某些勻場(chǎng)效果較差的區(qū)域，例如與主磁場(chǎng)非同心的區(qū)域，則其提高局部成像質(zhì)量的效果尤為明顯。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人西門子(中國(guó))有限公司;
- 發(fā)明人劉克成;陶紅艷;高靜;
- 地址100102 北京市朝陽(yáng)區(qū)望京中環(huán)南路7號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200710195529.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2007年12月04日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN101452065B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2011年10月19日
- 分類號(hào)G01R33/20(2006.01)I;G01R33/36(2006.01)I;G01R33/38(2006.01)I;G01R33/385(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I;
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