摘要：本發(fā)明涉及一種多次反射氣室，它包括：一光學(xué)池，光學(xué)池為兩端通透的中空長方體；二通透端上分別固定連接一主反射鏡板和一1/2反射鏡板，二通透端與所述主反射鏡板和1/2反射鏡板之間設(shè)置有“O”形密封圈；主反射鏡板上粘結(jié)有一主反射鏡，1/2反射鏡板上平行粘結(jié)有兩1/2反射鏡；與光學(xué)池一體的另兩側(cè)板上分別開設(shè)有一進(jìn)光口和一與其對應(yīng)設(shè)置的出光口；光學(xué)池內(nèi)的進(jìn)光口和出光口處分別設(shè)置有一入射反射鏡和一輸出反射鏡，且入射反射鏡和輸出反射鏡分別與進(jìn)光、出光方向成45°角；光學(xué)池上設(shè)置有二氣口，光學(xué)池與1/2反射鏡板之間固定連接一兩端通透的墊塊。本發(fā)明擴(kuò)大了測量范圍，實現(xiàn)了對不同中濃度氣體的精準(zhǔn)性測量。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京市華云分析儀器研究所有限公司;
- 發(fā)明人唐青云;石莉雯;
- 地址100091 北京市海淀區(qū)紅山口國防大學(xué)第三休養(yǎng)所三層
- 申請?zhí)?/b>CN200810246800.6
- 申請時間2008年12月31日
- 申請公布號CN101441166B
- 申請公布時間2010年11月10日
- 分類號G01N21/01(2006.01)I;G01N21/17(2006.01)I;
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