摘要：本發(fā)明屬于精密合金領(lǐng)域，涉及因瓦合金箔的制備方法。本發(fā)明所述的因瓦合金，即鎳含量為35～37％(wt％)的Fe-Ni合金，所述的因瓦合金箔的制造方法是采用電沉積法，電解液為低金屬鹽濃度的硫酸鹽體系，同時(shí)添加緩沖劑、絡(luò)合劑、光亮劑和輔助劑，并使用304不銹鋼、Ir氧化物涂層鈦板分別作為陰極和陽(yáng)極材料；電沉積的工藝參數(shù)為：溫度50～70℃，pH 3.0～4.5，電流密度1.0～10.0A/dm2，陰陽(yáng)極間距10～30mm，電沉積時(shí)間5～50min。將陰陽(yáng)極置于電解液中，通以一定時(shí)間的直流電，將因瓦合金沉積在陰極上，然后取出陰極板沖洗干凈，經(jīng)干燥將其表面形成的Fe-Ni合金層剝離下來(lái)，即成為因瓦合金箔。
- 專(zhuān)利類(lèi)型發(fā)明專(zhuān)利
- 申請(qǐng)人安泰科技股份有限公司;
- 發(fā)明人盧燕平;李鵬;韓偉;劉天成;孫克;李德仁;盧志超;周少雄;
- 地址100081北京市海淀區(qū)學(xué)院南路76號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200510127808.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2005年12月06日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN100449038C
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2009年01月07日
- 分類(lèi)號(hào)C25D1/04(2006.01);C25D3/56(2006.01);
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