摘要：本發(fā)明屬于輻射測量技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種高純鍺、碲化鋅鎘等輻射測量探測器的效率刻度方法。該方法不需要準(zhǔn)確獲得晶體尺寸及靈敏區(qū)尺寸，而僅需依據(jù)探測器說明書上粗略給出的晶體尺寸，在蒙特卡羅直接計算基礎(chǔ)上結(jié)合效率傳遞因子，可快速、準(zhǔn)確地實現(xiàn)探測器的無源效率刻度。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人中國輻射防護(hù)研究院;
- 發(fā)明人劉立業(yè);馬吉增;張斌全;潘紅娟;金月如;張勇;任澤仲;
- 地址030006山西省太原市學(xué)府街270號
- 申請?zhí)?/b>CN200510112535.9
- 申請時間2005年10月10日
- 申請公布號CN100399051C
- 申請公布時間2008年07月02日
- 分類號G01T1/24(2006.01);
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