摘要：一種大面積均勻薄膜或長超導(dǎo)導(dǎo)線的制備方法，尤其涉及一種制備高溫超導(dǎo)覆膜導(dǎo)體的成膜方法，及裝置。該方法可以滿足超導(dǎo)長帶材和大面積膜對(duì)熱處理過程中的燒結(jié)溫度和氣氛氣流的均勻性和精確性的要求；該裝置包括爐體，石英爐管，送氣系統(tǒng)，出氣系統(tǒng)，螺旋管式長導(dǎo)線樣品架或者片式大面積膜樣品架，金屬法蘭盤旋轉(zhuǎn)密封系統(tǒng)，可調(diào)速電機(jī)，測(cè)溫?zé)犭娕技捌涔艿?。?duì)于大面積薄膜沉積，不需要昂貴的真空室設(shè)備投資；對(duì)于超導(dǎo)長導(dǎo)線制備，不存在界面問題，從而能夠制備出具有更好超導(dǎo)性能的長超導(dǎo)導(dǎo)線。采用的非真空制備方法能大大降低操作條件和實(shí)施成本，提高成膜的均勻性和連續(xù)帶材的最終臨界電流密度。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人清華大學(xué);北京英納超導(dǎo)技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人韓征和;王三勝;劉莉;
- 地址100084北京市100084－82信箱
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200510058998.1
- 申請(qǐng)時(shí)間2005年03月29日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN100372140C
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2008年02月27日
- 分類號(hào)H01L39/24(2006.01);H01B12/00(2006.01);
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