摘要：本實(shí)用新型公開(kāi)了一種絕對(duì)法反射率測(cè)試裝置，包括平臺(tái)，其特征在于還包括固定在平臺(tái)上并在平臺(tái)上排列成等腰梯形的四根立柱，安裝在立柱上可調(diào)節(jié)鏡面水平方向的四面反射鏡，安裝在平臺(tái)上且對(duì)稱線與所述等腰梯形對(duì)稱線一致的支架，通過(guò)轉(zhuǎn)軸與支架連接并可繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的支桿，通過(guò)另一轉(zhuǎn)軸固定在支桿上并可繞支桿翻轉(zhuǎn)的一面反射鏡，固定在平臺(tái)上、位于所述等腰梯形對(duì)稱線上且對(duì)稱分布于支架兩側(cè)的高度調(diào)節(jié)裝置。本實(shí)用新型在測(cè)量反射率時(shí)不用顧慮到參考樣品本身的存放時(shí)間、表面光潔度等客觀因素，使得測(cè)量數(shù)據(jù)真實(shí)可信。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人上海天美科學(xué)儀器有限公司;
- 發(fā)明人吳洪池;
- 地址201108上海市閔行區(qū)春東路555號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN03210473.1
- 申請(qǐng)時(shí)間2003年09月09日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN2723987Y
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2005年09月07日
- 分類號(hào)G01N21/55;G01M11/00;
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