摘要：本實用新型實施例公開了一種噴繪機(jī)介質(zhì)導(dǎo)向裝置和噴繪機(jī)。其中，一種噴繪機(jī)介質(zhì)導(dǎo)向裝置，包括：支撐架、安裝在所述支撐架上的第一導(dǎo)向機(jī)構(gòu)和第二導(dǎo)向機(jī)構(gòu)、其中，所述第一導(dǎo)向機(jī)構(gòu)和第二導(dǎo)向機(jī)構(gòu)包括介質(zhì)導(dǎo)向段；其中，所述介質(zhì)導(dǎo)向段包括：直介質(zhì)導(dǎo)向段、以及與所述直介質(zhì)導(dǎo)向段連接的彎介質(zhì)導(dǎo)向段；其中，所述第一導(dǎo)向機(jī)構(gòu)和第二導(dǎo)向機(jī)構(gòu)的彎介質(zhì)導(dǎo)向段之間的間距逐漸增大。本實用新型實施例提供噴繪機(jī)介質(zhì)導(dǎo)向裝置，有利于減少噴繪輸入過程中待噴繪介質(zhì)的損傷幾率，提高生產(chǎn)效率。
- 專利類型實用新型
- 申請人深圳市潤天智數(shù)字設(shè)備股份有限公司;
- 發(fā)明人楊付偉;趙晨光;張戈;江洪;
- 地址518110 廣東省深圳市寶安區(qū)觀瀾街道環(huán)觀南路高新產(chǎn)業(yè)園區(qū)
- 申請?zhí)?/b>CN201220073158.8
- 申請時間2012年03月01日
- 申請公布號CN202529614U
- 申請公布時間2012年11月14日
- 分類號B65H5/36(2006.01)I;B41J3/407(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I;
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