摘要：本實用新型涉及的是帶晶片平穩(wěn)運動的三工位轉(zhuǎn)盤，其特征是在三工位轉(zhuǎn)盤上開三個孔，即測量工位A孔、落料工位B孔、放片工位C孔，每孔直徑1.5-6mm，孔間相隔120度，三工位轉(zhuǎn)盤表面的平行度0.005mm。本實用新型的優(yōu)點：提高了晶片平衡運動，保證晶片無破損，快速準(zhǔn)確無跑片。精度高；加工簡單；加工材料經(jīng)濟，降低了機械運動的摩擦負(fù)荷；減少運動距離，縮短了晶片運動距離，不易產(chǎn)生靜電。
- 專利類型實用新型
- 申請人南京新聯(lián)電訊儀器有限公司;
- 發(fā)明人孫振華;
- 地址210042江蘇省南京市玄武區(qū)東方城108號F座3樓
- 申請?zhí)?/b>CN200920043794.4
- 申請時間2009年05月31日
- 申請公布號CN201394541Y
- 申請公布時間2010年02月03日
- 分類號B07C5/00(2006.01)I;
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