摘要：本實(shí)用新型涉及雙槽低倍組織電解酸蝕裝置，該裝置包括電控柜(1)、酸蝕器(2)，該酸蝕器(2)包括電解槽(3)、電解板(4)、卡槽(5)、電解槽上蓋(6)、電解槽溢流管(7)、儲(chǔ)液槽(8)、儲(chǔ)液槽上蓋(9)、連通管(10)、排液管(11)、排液孔(12)、泵(13)，所述的電解槽(3)設(shè)在儲(chǔ)液槽(8)上方，電解槽(3)頂部?jī)蓚?cè)邊緣設(shè)有放置電解板(4)的卡槽(5)，電解槽(3)底部設(shè)有排液孔(12)，該排液孔(12)通過帶閥門的連通管(10)與儲(chǔ)液槽(8)相連，所述的儲(chǔ)液槽(8)底部一側(cè)設(shè)有帶閥門的排液管(11)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有重復(fù)性好、效率高、環(huán)保等特點(diǎn)。
- 專利類型實(shí)用新型
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