摘要：本發(fā)明涉及精密或超精密拋光技術(shù)，具體涉及一種硅溶膠拋光膜及其制備與應(yīng)用，所述硅溶膠拋光膜包括柔性襯底層和涂覆形成于所述柔性襯底層表面的拋光研磨層；所述拋光研磨層是由包括經(jīng)表面改性后的納米水性硅溶膠和水性樹(shù)脂膠粘劑的原料混合體在所述柔性襯底層表面所形成的固化干燥層。本發(fā)明通過(guò)采用對(duì)水性硅溶膠進(jìn)行表面改性，并將其作為核心原料制備拋光研磨層，有利于改善研磨層在柔性襯底上的附著力及提高拋光壽命。本發(fā)明所述硅溶膠拋光膜主要用于光纖連接器和光纖陣列的最終拋光，也可用于精密光學(xué)器件的超精密加工。經(jīng)過(guò)該硅溶膠拋光膜拋光后，被拋光器件的表面將變得很光滑、甚至呈鏡面，器件表面無(wú)任何凹坑、劃傷或異物黏著等不良現(xiàn)象。
- 專(zhuān)利類(lèi)型發(fā)明專(zhuān)利
- 申請(qǐng)人北京國(guó)瑞升科技股份有限公司;
- 發(fā)明人吳月英;程麗芳;
- 地址100085 北京市海淀區(qū)上地信息路12號(hào)1號(hào)樓C402、C406室
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201610480193.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年06月27日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN106117582A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年11月16日
- 分類(lèi)號(hào)C08J7/04(2006.01)I;C09D133/02(2006.01)I;C09D167/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D175/04(2006.01)I;C09D133/00(2006.01)I;B24D11/00(2006.01)I;
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